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반도체/광학/MOCVD.
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  피oo 42세 2년 이상
  생년월일 : 1978-01-19
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  최종학력 : 서울시립대학교대학원 전자전기컴퓨터학과 졸업
  희망연봉 : 3000~4000 만원
  희망근무지역 : 1.경상북도 2.경기도 3.전국
  경력 : 2년 이상
  희망직종 : [R&D],[반도체/LCD/PDP][태양전지/LED]
대학원졸
[ ]
 1993년 ~ 1996년인헌고등학교 졸업
 1996년 ~ 2003년서울시립대학교 졸업학과전자전기 학과 총점3.49/4.5
 2003년 ~ 2005년서울시립대학교대학원 졸업학과전자전기컴퓨터 학과 총점4.38/4.5
 무선설비기사1급
2년 이상
1. 2003년 3월 ~ 2005년 2월 : 서울시립대학교 대학원 광전자연구실
- 업무: LiNbO3 광변조기 설계 및 제작, 지하철 극저주파 전자계 안정성 평가
- 역할: Ti:LiNbO3 Mach-Zender 결합기 및 CPW 진행파 전극 설계 및 제작
도파로, 광섬유 등 활성층 내 전계 해석 (FDM,FEM)
- 성과: LiNbO3 광변조기 제작
- 실적:
<졸업논문>
: 진행파 광변조기 입/출력단의 설계: 슈바르츠-크리스토펠 변환
<논문>
: CPW 진행파 전극, M-Z형 Ti:LiNbO3 광변조기, 한국광학회, Vol 15, N0 5, Oct 2004, pp.475-482

2. 2004년 7월 06 ~ 2005년 8월 : 한국전기연구원 전기환경송전그룹 근무
- 업무: 송배전선 및 변전소 주변 전자계 저감에 관한 연구 수행
- 역할: 전자계 측정 및 저감 방법에 대한 분석, 시뮬레이션
- 성과: 신규 송전선 전자계 저감 설계, 변전소 주변 전자계 차폐 구조 설계

3. 2005년 12월 ~ (현재) : (주)LS전선 중앙연구소 광기술그룹 근무
- 업무: 반도체 레이저 다이오드(LD) 개발 (2005년 12월 ~ 2007년 12월)
- 역할: MOCVD(Emcore社 D120)를 이용한 InP 계열 박막 설계 및 성장, PL 및 XRD 특성평가
포토 리소그라피(Karl Suss社 MA6), 에칭, PECVD 이용 Si3N4/SiO2 증착, E-beam 이용 전극 코팅
- 성과: 1.31um 파장을 갖는 DFB-LD 개발 (박막성장 및 칩공정 전체 단독 수행)
Quarter→2inch 공정 개발로 LS 전선 기술개발본부장 상 수상 (2006년)
- 실적:
<논문>
① 넓은 온도 범위(-40℃~95℃)에서 동작 가능한 1.31um 비냉각 DFB-LD
(TP-1, Photonics Conference 2007)
② 고온에서 낮은 발진개시전류를 갖는 1.31um 비냉각 DFB-LD
(FP-28, Photonics Conference 2006)
<특허>
① 누설전류를 감소시키는 이중 헤테로 구조를 구비한 반도체 광소자 및 그 제조방법 (출원번호: P2007-0011242)
② 전계 집중도가 개선된 전극 구조를 구비한 레이저 다이오드 (출원번호: P2008-0035032)

- 업무: 광섬유 개발 (2008년 1월 ~ 현재)
- 역할: MCVD를 이용한 광섬유 모재 제조 및 품질 향상 위한 경상 지원
- 성과: O-band 사용 가능 NZ-DSF 개발, LWP 광섬유 개발
품질 불량 해결을 위한 구조 변경 및 공정 개선안 지원
- 실적:
<논문>
① 언덕형 hollow optical fiber의 전계 해석, 한국광학회, Vol 17, N0 6, Dec 2006, pp.493-499
언어 시험종류 점(급)
회화
작문
독해
파워포인트엑셀MS Word
한글
그래픽

인터넷검색프로그래밍게임
영어챗팅
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